Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Тонкая очистка газов

    В качестве абсорбента в этом процессе используется охлажденный метанол. С понижением температуры абсорбционная емкость метанола резко возрастает. Обычно используется температура —60-=--70°С, при этом из газа одновременно извлекаются все сернистые соединения, СОг и влага. Метанол химически нейтрален, обладает высокой интенсивностью массообмена, имеет низкую температуру замерзания, обеспечивает тонкую очистку газа. [c.180]


    Достоинства процесса тонкая очистка газов от сероводорода и СОз обеспечивается в широком интервале парциальных давлений моноэтаноламин имеет повышенную химическую стабильность, легко регенерируется, обладает высокой реакционной способностью технологическое и конструкторское оформления процесса отличаются простотой и высокой надежностью при правильной эксплуатации установки моноэтаноламиновый раствор относительно плохо поглощает углеводороды, что способствует повышению эффективности производства серы из кислых газов МЭА-очистки. [c.143]

    Вследствие разрушения и слеживания гранул, загрязнения слоя, отравления катализатора соединениями мышьяка и температурной порчи его при случайных нарушениях режима ванадиевая контактная масса заменяется в среднем через четыре года. Если же нарушена очистка газа, получаемого обжигом колчедана, то работа контактного аппарата нарушается вследствие отравления первого слоя контактной массы через несколько суток. Для сохранения активности катализатора применяется тонкая очистка газа мокрым способом. [c.132]

    Преимуществами адсорбционных методов очистки перед абсорбционными являются высокая поглотительная способность адсорбентов даже при низких. парциальных давлениях извлекаемых компонентов и возможность сочетать тонкую очистку газа от сероводорода, диоксида углерода и сераорганических соединений с глубокой осушкой газа (например, до точки росы газа по влаге минус 70 °С при очистке и осушке газа на цеолитах). [c.15]

    Аминовые процессы обеспечивают тонкую очистку газов от сероводорода и диоксида углерода при незначительном поглощении углеводородов. [c.5]

    Характерной особенностью всех вышеописанных схем является наличие циркуляции синтез-газа на стадии синтеза метанола, а также последующая тонкая очистка газов, отходящих на синтез аммиака, от оксидов углерода. [c.212]

    Достоинства процесса обеспечивается тонкая очистка газа от HaS и СОа в присутствии OS и Sj (продукты реакции диэтаноламина с OS и Sa гидролизуются при регенерации растворителя до СОа и HaS) раствор диэтаноламина химически стабилен в условиях процесса, легко регенерируется, имеет низкое давление насыщенных паров технологическое и конструктивное оформление процесса отличается простотой и высокой надежностью при правильной эксплуатации установки абсорбция проводится при температуре на 10—20 °С выше, чем в МЭЛ-процессе, что позволяет предотвратить интенсивное вспенивание раствора при очистке газа с повышенным содержанием тяжелых углеводородов (или при попадании в раствор жидких углеводородов). [c.146]


    В указанном способе в качестве хемосорбента используется диизопропаноламин (ДИПА) в водном растворе с содержанием до 40 %. ДИПА обеспечивает тонкую очистку газа от HjS (до [c.21]

    Ныне тонкая очистка газа для ванадиевых катализаторов заключается в охлаждении и промывке газа в башнях с насадкой (при этом поглощается часть ядовитых примесей), улавливании образовавшегося мышьяково-кислотного тумана в электрофильтрах и сушке газа серной кислотой в башнях с насадкой. [c.13]

    Тонкая очистка газов от аэрозольных частиц достигается фильтрованием. Широко применяются бумажные, асбестовые и тканевые фильтры. Очень мелкие частицы отделяют от газовой фазы с использованием фильтров из пористых керамических материалов (поролитовые фильтры). [c.191]

    Растворы МЭА обеспечивают тонкую очистку газа от НгЗ и СО2 в широком диапазоне концентраций. МЭА легко регенерируется, химически стабилен и по сравнению с другими аминами мало поглощает углеводороды. [c.17]

    МЭА, кроме того, продукты реакции ДЭА с OS и S2 практически полностью гидролизуются до H2S и СО2. Поэтому растворы ДЭА в отличие от МЭА обеспечивают тонкую очистку газа в присутствии OS и S2. ДЭА химически стабилен в условиях очистки газа, сравнительно легко регенерируется и имеет низкое давление насыщенных паров. Раствор ДЭА вспенивается в меньшей степени, чем раствор МЭА, так как и абсорбция, и десорбция проводятся при относительно более высокой (на 10 20 "С) температуре, чем при работе с раствором МЭА. [c.20]

    Адсорбционную очистку газа от сероводорода и сераорганических соединений применяют обычно при небольших концентрациях извлекаемых компонентов в газе, когда необходима тонкая очистка газов от примесей, либо сочетают процессы тонкой очистки газа от меркаптанов и осушки перед подачей газа на низкотемпературную переработку. [c.61]

    Очищенный от сажи и золы газ поступает на очистку от сероводорода и значительной части двуокиси углерода водным раствором диэтаноламина. Остаточное содержание в газе сероокиси углерода и сероводорода после очистки составляет 600 и 20—30 мг/м соответственно. Для полного удаления сернистых соединений предусматривается тонкая очистка газа. [c.158]

    Предварительную грубую очистку газа можно вести также в теплообменнике, установленном перед абсорбером. По этому варианту в поток газа перед теплообменником подается часть раствора. Насыщенный раствор выделяется во входном сепараторе и отводится на регенерацию. Тепло абсорбции, выделенное в теплообменнике, можно отводить, подавая циркулирующую воду. Тонкая очистка газа осуществляется в абсорбере основной частью, регенерированного раствора амина. [c.43]

    При удельном расходе раствора ДЭА обеспечивалась тонкая очистка газа от НгЗ и СОг их остаточное содержание в товарном газе составляло 2—6 мг/м и 0,0001% соответственно. [c.53]

    При малой продолжительности контакта не достигается тонкая очистка газа от НгЗ, при большой за счет увеличения количества поглощенного диоксида углерода снижается селективность процесса. [c.58]

    В табл. 3.4 даны характеристики ряда установок очистки тазов с высоким содержанием диоксида углерода. На установках обеспечивается тонкая очистка газа от сероводорода, серо--оксида углерода и тиолов. Часть диоксида углерода остается [c.84]

    МПа и 43 °С. На установку подавались газы с различным содержанием СО2 и H2S. Во всех вариантах достигается очистка газа от сероводорода и диоксида углерода до их. остаточного содержания в товарном газе 5,7 мг/м и 1% (об.) соответственно. На установке достигалась также тонкая очистка газа от серооксида углерода. [c.92]

    Эксперименты показали, что тонкая очистка газа от тиолов связана с извлечением около 40% СОг из газа. [c.116]

    К достоинствам диизопропаноламипа относятся хорошая селективность к H2S в присутствии СО2 т5, что он не подвержен разложению в присутствии OS, эффективен при извлечении OS в больших количествах не вызывает коррозию оборудования обеспечивает тонкую очистку газа низкая растворимость углеводородов низкие энергозатраты. [c.175]

    Раствор обеспечивает тонкую очистку газа от H2S и СО2 с OS, S2 и меркаптанами образует легкорегенерируемые соединения, обладает низкими растворимостью углеводородов и температурой замерзания (б5%-нрлй раствор имеет температуру замерзания —44 °С). Насыщенный раствор ДГА рекомендуется регенерировать под вакуумом (13—17 кПа) и при температуре в нижпей части регенератора 160—170°С. [c.175]

    Холод получают в абсорбционно-холодильных установках. Их работа основана на использовании низкопотенциального тепла конвертированной парогазовой смеси и отпарного газа разгонки газового конденсата. Предусмотрена тонкая очистка газа от СО и следов СО2. С этой целью устанавливается один агрегат метанирования 44. Он состоит из метанатора 44, двух подогревателей воды 43 и 42, аппарата воздушного охлаждения 41 и влагоотделителя. Очистка газа идет в присутствии катализатора. Агрегат синтеза аммиака при 32-10 Па работает с высокой степенью использования азотоводородной смеси при повышенной концентрации инертных газов в цикле, повышенной производительности катализатора, в нем происходит полная отмывка азотоводородной смеси от следов СО2. Последнее предотвращает опасность попадания твердых частиц аммиачно-кар-бонатных солей в аппаратуру высокого давления. Температура корпуса колонны синтеза 38 не должна превышать по расчету 250 °С. Колонна конструктивно выполняется из рулонированных и цельнокованных царг, сваренных между собой. Колонна синтеза 38 загружается гранулированным железным катализатором, который механически более прочен, чем кусковой, и создает меньшее гидравлическое сопротивление. [c.206]


    Основные недостатки процессов физической абсорбции состоят в следующем применяемые растворители относительно хорошо поглощают углеводороды тонкая очистка газов обеспечивается после дополнительной доочистки алканоламиновыми растворителями. [c.5]

    Основное отличие схемы пиролиза жидких фракций от схемы пиролиза этана и других видов газообразного сырья — замена водной промывки газов пиролиза масляной промывкой и первичнш" ректификацией. Для очистки сконденсировавшейся из наро-газо-вой смеси воды (перед направлением ее па биологическую стаи цию) вместо отстаивания и флотации используют систему отпарки углеводородов в фильтрах, заполненных кольцами Рашига. )ти мероприятия позволяют осуществить тонкую очистку газов пиролиза и выделить ниро Конде ." ат. [c.24]

    Весьма ценно, что через кипящий сдой свободно проходит имеющаяся в газе несорбируемая пыль, тогда как неподвижный фильтрующий слой задерживает иыль практически полностью. При этом зерна ненодвижного слоя экранируются, проходы между ними частично забиваются пылью. Достаточно небольших количеств пыли, чтобы нарушить равномерность распределения газа но сечению ненодвижного слоя, соответственно нарушается изотермичность в сечении слоя, понижается выход продукта, могут вознщ нуть побочные реакции и произойти термическая порча катализатора. Таким образом, в некоторых производствах, в частности, в сернокислотном, переход от неподвижного слоя к кипящему позволяет значительно упростить тонкую очистку газа от механических примесей. [c.102]

    Экспериментальные данные показывают, чтО для практически полной очистки обжигового газа необходим четырехполочный аппарат с решетками типа 6/3, имеющими пороги высотой 80 мм. Расчетное гидравлическое сопротивление аппарата (АР) у- около 2700 Па (270 мм вод. ст.), расход воды — примерно 0,35 л на 1 м очищаемого, газа. В аппарате одновременно может осуществляться тонкая очистка газа от пыли, охлаждение газа и улавливание мышьяка (и селена). , [c.185]

    В отличие от хемосорбциопных способов методом физической абсорбции можно наряду с сероводородом и диоксидом углерода извлекать серооксид углерода, сероуглерод, меркаптаны, а иногда и сочетать процесс очистки с осушкой газа. Поэтому в некоторых случаях (особенно при высоких парциальных давлениях кислых компонентов и когда не требуется тонкая очистка газа) экономичнее использовать физические абсорбенты, которые по сравнению с химическими отличаются существенно более низкими затратами на регенерацию. Ограниченное применение этих абсорбентов обусловлено повышенной растворимостью углеводородов в них, что снижает качество получаемого кислого газа, направляемого обычно на установки получения серы. [c.14]

    ДГА обеспечивает тонкую очистку газа от HjS (ниже 5,7 мг/м ) и Oj (ниже 0,01 % по объему). При взаимодействии ДГА с СО2, OS, S2 и меркаптанами образуются легкорегенерируемые соединения. По сравнению с МЭА и ДЭА ДГА обладает существенно более высокой способностью извлекать меркаптаны. Степень насыщения раствора кислыми компонен- [c.21]

    Использование процесса НТМА экономично, так как на тонкую очистку газа от меркаптанов растворами щелочи можно направлять не весь поступающий природный газ, а только выделенную ПБФ, доля которой в перерабатываемом газе не более 3 % по объему. [c.48]

    В табл. 4 приведены технологические параметры очистки природного газа Сульфинолом при давлении 7 МПа и температуре 43 °С [7], откуда видно, что способ обеспечивает тонкую очистку газа при относительно небольших расходах абсорбента. По данным [29], замена МЭА-очистки газа способом Сульфинол" приводит к увеличению производительности установки по сырью в 1,5 раза. Регенерацию ведут при 65 °С, поэтому расход пара в 2-2,5 раза меньше, чем по МЭА-способу. Реакция ДИПА с Oj здесь значительно замедлена и потери абсорбента в четыре раза меньше, чем по МЭА-способу. [c.55]

    Фирма ВАЗ Г (ФРГ) разработала 128] для конверсии окиси углерода в присутствии сернистых соединений активный кобальтмолиб-деновый катализатор, позволяющий вести процесс при 280—350 Ведутся работы и по дальнейшему снижению температуры конверсии т. е. созданию низкотемпературного катализатора конверсии СО стойкого к отравлению сернистыми соединениями. Такой катализатор пока не освоен, поэтому ограничиваются среднетемпературной конверсией или проводят, тонкую очистку газа после средпетемпе-ратурной конверсии и подают его на низкотемпературную конверсию. По схеме, представленной на рис. 63, газ после среднетемпературной конверсии охлаждают в котле-утилизаторе и направляют на очистку от Н 58 и СОз. Очистку с получением концентрированного  [c.163]

    Газ парокислородной конверсии метана для производства синтез-газа также содержит излишнее количество оксида углерода (IV), который должен быть удален из него. Поэтому заключительной стадией процесса конверсии природного газа в обоих случаях является очистка конвертированного газа от оксида углерода (IV). Методы очистки от других примесей, так называемая тонкая очистка газа, были рассмотрены в главе XI. Наиболее распространенный метод удаления оксида углерода (IV) из конвертированного газа — этаноламинная очистка. В ее основе лежит хемосорбция оксида углерода 20% -ным раствором моноэтаноламина (МЭА). Образующиеся при этом карбонат и бикарбонат МЭА нестойки и при нагревании выше 100 С диссоциируют с выделением оксида углерода (IV) и регенерируют раствор МЭА  [c.225]

    Сульфинол хорошо растворяет HjS, Og, RSH, OS, Sg и углеводороды он химически и термически стабилен, имеет низкую теплоемкость и давление насыщенных паров, может быть использован для комплексной очистки сухих газов от нежелательных серо- и кислородсодержащих соединений, позволяет производить тонкую очистку газов от меркаптанов и от сероуглерода одновременно (степень извлечения меркаптанов 95%) при взаимодействии с СО2 сульфинол незначительно деградирует с -образованием диизопропанол-оксазолодона, который имеет щелочную реакцию и хорошо растворяет кислые газы (допустимое содержание его в абсорбенте 10%). Наличие в сыром газе СО2 не приводит к большим потерям сульфинола — на промышленных установках разложение сульфинола в 4—8 раз меньше, чем моноэтаноламина [28, 69]. Продукты разложения легко удаляются из системы в результате того, что до 0,05% регенерируемого раствора подвергается специальной очистке. Поглощающая способность сульфинола примерно в 2 раза выше, чем раствора моноэтаноламина [52]. [c.154]

    Сочетая способы каталитического окисления и физической адсорбции, на угле можно осуществить тонкую очистку газа от всех сернистых соединений. Недостатком угольной адсорбции есть вдкличность процесса и сложность технологической схемы. При большой мощности современных установок синтеза аммиака и метанола оборудование узла сероочистки становится очень громоздким. Все это делает проблема-, тичным развитие этого способа, хотя в настоящее время он имеет широкое распространение в ряде стран. [c.88]

    Аминовые процессы обеспечивают тонкую очистку газов от сероводорода и СОа при различных рабочем давлении и концентрации их в исходном сырье растворимость углеводородов в этих абсорбентах невелика. Технологическое и аппаратурное оформление процессов отличаются пр остотой и надежностью. [c.138]

    Основные недостатки процессов применяемые растворители относительно хорошо поглощают углеводороды тонкая очистка газов обеспечивается в ряде случаев только после дополнительной доочистки их алканоламиновыми растворителями (т. е. грубая очистка производится, например, растворителем ДМЭПЭГ, а тонкая очистка — раствором моноэтаноламина). [c.139]

    Процесс Эконамин [33—43]. В качестве растворителя используются водный раствор дигликольамина (ДГА) с концентрацией активного вещества 60—65% масс, (против 20—30% в ДЭА-процессе). С помощью этого растворителя достигается тонкая очистка газа от HaS (до 5,7 мг/м ). При взаимодействии дигликольамина с СОа, OS, Sa и меркаптанами образуются легко регенерируемые соединения (активность ДГА по отношению к СОа выше, чем МЭА). В процессе очистки обеспечивается высокое извлечение СОа, OS, Sa и легких меркаптанов. Степень насыщения раствора ДГА может достигать 40—50 л кислых газов на 1 л раствора (вместо 30—35 л/л при МЭА-очистке). [c.148]

    Однако эти процессы, как правило, не обеспечивают тонкую очистку газов от различных тиолов., Для этой цели применяют процессы с использованием в качестве поглотителя водных растворов щелочей, гидроксида железа, трибутилфосфата, а также процессы адсорбции и низкотемпературной абсорбции [84—100] . Область применения указанных процессов зависит как от состава газа, так и от конкретных условий производства. Так, использование водных растворов щелочей предпочтительно в тех случаях, когда из пе )ерабатываемого газа не требуется извлекать диоксид углерода. Применение процесса низкотемпературной абсорбции целесообразно для одновременного извлечения из газа тиолов и тяжелых углеводородов. Каталитические процессы чаще всего применяют для одновременного гидрирования тиолов, серооксида углерода и других сероорганических соединений с получением сероводорода и с последующей очисткой газа от H S.. [c.104]

    Селективное извлечение из газа HgS в присутствии Oj (см. рис. П1.23). Такой случай встречается довольно часто — при тонкой очистке газа от сероводорода с низким соотношением HgS СО2 и необходимости получения кислых газов с высоким соотношением HjS Og на первой ступени и низким соотношением этих компонентов на второй ступени очистки (в этом случае кислые газы первой ступени предназначаются для производства серы, а кислые газы второй ступени — для производства товарного диоксида углерода). Из рис. П1.23 следует в частности, что при низких парциальных давлениях кислых газов в исходном сырье процессы Стрет( юрд и Ветрококк обеспечивают тонкую очистку газа. Однако в связи с известными их недостатками более рацио- [c.159]

    При очистке высокосернистого газа месторождения Уртабу-,лак как раствором МЭА, так и раствором ДЭА достигается тонкая очистка газа от НгЗ в одну ступень при отношении раствор/газ равном 4,4—4,8 л/м . Степень регенерации растворов ДЭА по кислым компонентам была, как и при очистке малосернистого газа, значительно глубже, чем при регенерации растворов МЭА. [c.47]

    Как было указано выше на аминовых установках не достигается тонкая очистка газа, от тиолов и сероорганических соединений. В режимах глубокого извлечения H2S и СО2 из газа степень извлечения метан-, этан- и пропантиолов составляет 45—55, 20—25 и 10% соответственно. Относительно большая степень извлечения более легкого тиола H3SH объясняется тем, что растворы амина проявляют по отношению к нему более высокую реакционную способность. С увеличением концентрации СОг в сырьевом газе степень извлечения тиолов растворами аминов снижается. [c.54]

    Большой интерес представляет сравнение процесса селексол с другими процессами очистки газа. В табл. 3.7 приводятся данные одного из вариантов. В качестве исходных данных, были взяты давление в абсорбере 7,1 МПа концентрация СОг в сырьевом газе 30% содержание НгЗ в газе до очистки 458 мг/м производительность установки 2,83 млн. м /сут.. Во всех вариантах предусматривалась тонкая очистка газа от-сероводорода. Худшие показатели имеет процесс очистки газа раствором МЭА, что связано с глубоким извлечением диоксида углерода из газа. Капиталовложения и эксплуатационные расходы на установках, использующих физические поглотители,, значительно ниже. Следует отметить, что этот процесс более пригоден для очистки тощего газа, поскольку абсорбент по-глощает пропан и более тяжелые углеводороды. При большем содержании пропана и более тяжелых углеводородов для очистки газа процессом Селексол следует исключать попадание углеводородов на установки Клауса. [c.90]


Смотреть страницы где упоминается термин Тонкая очистка газов: [c.172]    [c.177]    [c.199]    [c.36]    [c.48]    [c.157]    [c.12]    [c.147]   
Очистка технологических газов (1977) -- [ c.0 ]

Справочник азотчика Том 1 (1967) -- [ c.271 , c.278 , c.303 , c.317 , c.327 ]

Очистка технических газов (1969) -- [ c.0 ]

Справочник азотчика Т 1 (1967) -- [ c.271 , c.278 , c.303 , c.317 , c.327 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

тонкой



© 2022 chem21.info Реклама на сайте