ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Отверждение покрытий под действием излучения из "Химия и технология лакокрасочных покрытий Изд 2" Способ отверждения покрытий УФ-излучением ( УФ-суш-ка ) получил промышленное развитие в конце 60-х годов и в настоящее время считается одним из наиболее перспективных. Достоинствами этого способа являются относительно высокая производительность, малые затраты энергии, несложность оборудования. Вместе с тем отверждение под действием УФ-излучения применимо к ограниченному числу лакокрасочных материалов. Его используют главным образом при получении покрытий из лаков, эмалей и шпатлевок на основе ненасыщенных полиэфиров и полиакрилатов. Такие покрытия получают на древесине, картоне, бумаге, нередко на металлах и других материалах. Принцип отверждения основан на способности УФ-лучей инициировать реакцию полимеризации указанных олигомерных материалов. Энергия УФ-излучения достаточно высока— 3-ь12 эВ, что в 2—4 раза выше энергии лучей видимого света. Это позволяет проводить отверждение покрытий с удовлетворительной скоростью при нормальной температуре. [c.280] Процесс отверждения эффективно протекает при введении в лакокрасочные материалы фотоинициаторов полимеризации. Для полиэфирных пленкообразователей ими служат бензофе-нон и его производные, простые эфиры бензоина, ацетофенон, бензальдегид. Оптимальная дозировка фотоинициаторов в зависимости от их фотохимической активности и толщины наносимого слоя лакокрасочного материала составляет от 0,2 до 1,0%. [c.280] Отверждение полиэфирных покрытий ускоряется присутствием окислительно-восстановительной системы, состоящей, например, из алифатического амина (триэтиламин, триэтаноламин) и пероксида (бензоилпероксид и др.). Однако в этом случае резко (до 6—8 ч) сокращается жизнеспособность композиций. [c.280] Фотоинициирование полимеризации, учитывая области максимальной адсорбции Уф-излучен ия, происходит в диапазоне длин волн до 700 нм. Соответственно этому выбирают источники УФ-излучения ртутные, люминесцентные и ксеноновые лампы и кварцевые излучатели. Предпочтительны источники с высокой эмиссией в диапазоне длин волн 300—400 нм и максимумом излучения в области 360—370 нм. Полиэфирные лаки в большинстве случаев отверждают излучением от ламп двух типов люминесцентных низкого давления и ртутных высокого давления. Перспективным источником УФ-излучения является излучение плазмы аргона, образующейся при дуговом разряде. Такие излучатели способны создавать поток излучения с поверхностной плотностью до 75 кВт/м (для ртутных ламп она примерно равна 12 кВт/м ). [c.281] Отверждение покрытий при УФ-излучении проводят на установках непрерывного и периодического действия. Особенно хорошо зарекомендовал себя этот способ при поточной отделке щитовой мебели. В типовом варианте установка непрерывного действия включает камеру отверждения с ртутными УФ-лампа-ми и рефлекторами (применяются лампы низкого — ЛЭР-30, ЛЭР-40 и высокого —ДРТ-10 ООО, ДПТ-12 000 давления), охладитель (предусматривается охлаждение изделий или ламп холодным воздухом), напольный конвейер, систему вентиляции. [c.281] Отверждают лаки, эмали и шпатлевки. Продолжительность отверждения лаков (ПЭ-2106) 1—2 мин, эмалей и шпатлевок при толщине слоя до 150 мкм 2—5 мин. Более тонкие покрытия отверждаются быстрее. В промышленных условиях отверждение покрытий проводят при больших скоростях конвейера (10— 50 м/мин). Эксплуатационные расходы на установках УФ-сушки в 1,5—2,0 раза меньше, чем на установках терморадиационного отверждения. [c.281] Вернуться к основной статье