ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Процессы в плазме дуги, влияющие на интенсивность спектральных линий из "Методы спектрального анализа" Рассмотренные выше процессы (испарение пробы, атомизация вещества, массообмен, диффузия) влияют на интенсивность спект ральной линии. Помимо того, оказываются важными процессы ионизации, возбуждения, реабсорбции, а также разнообразные химические реакции в плазме дуги. На рис. 3.9 предетавлена схема основных процессов в источнике света, определяющих интенсивность регистрируемой спектральной линии. [c.41] Аналогичную формулу можно записать для спектральных линий ионов. Предполагается, что соединение определяемого элемента полностью диссоциировано. В действительности в дуговом разряде постоянного тока для многих элементов (титана, циркония, гафния, ниобия, тантала, ванадия, кремния, алюминия) степень атомизации может быть меньше единицы. На рис. [c.41] Менделеева в зависимости от температуры. [c.41] При приближенной оценке влияния параметров Г и е на интенсивность спектральных линий неоднородностью плазмы пренебрегают и для определенности используют так называемые эффективные параметры Гэф и Пе,зф, понятие о которых было введено Боумансом. [c.42] Основными физическими параметрами, влияющими на абсолютное значение концентрации атомов и на их распределение в межэлектродном промежутке, являются средняя скорость испарения вещества из канала электрода, радиус дуги, коэффициент диффузии атомов, скорость переноса частиц вдоль оси разряда, геометрия разряда. [c.42] На перечисленные параметры и, следовательно, на интенсивность спектральных линий влияют состав пробы и условия разряда. В табл. 3.3 приведены некоторые параметры переноса атомов в межэлектродном промежутке для ряда элементов в зависимости от характеристики плазмы. [c.42] Характеристики плазмы Элемент Потенциал иоиизации, эВ Коэффициент диффузии, О, см /с Скорость Ист. [c.43] Примечания 1—добавка введена способом пропитки электродов 2—добавка введена стандартным способом. [c.44] Вернуться к основной статье