ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Методы, основанные на фотохимическом разложении маскирующего реагента из "Фотохимические реакции в аналитической химии" Методы осаждения, основанные на фотохимическом разложении маскирующего реагента, дают большие возможности для практического применения, поскольку многие известные маскирующие реагенты фотохимически активны. Среди них следует в первую очередь назвать аминополикарбоновые кислоты (комплексоны) [250—252], а также щавелевую [27, 137—139, 170, 200, 270, 271, 303, 309, 314, 315, 339, 345, 346, 354], лимонную [3391, молочную [342], винную [1051 и другие карбоновые и оксикар-боноБые кислоты [103, 289, 3511. [c.119] В качестве примера можно привести осаждение тантала в виде селенита с использованием фотохимического разрушения щавелевой кислоты, маскирующей тантал [420]. Для этого в раствор вводят селенит натрия и путем фотохимического окисления щавелевой кислоты бромом высвобождают из оксалатного комплекса тантал, который осаждается затем в виде селенита. Таким образом, скорость осаждения тантала зависит от скорости его высвобождения из оксалатного комплекса, котора5Г, в свою очередь, зависит от скорости фотохимического окисления щавелевой кислоты. [c.119] Фотохимическое разложение комплексов металлов изучалось многими исследователями [10, 114, 128, 130, 149, 186, 209, 210, 231, 259, 322, 329—332, 383, 390, 395, 399, 408, 409]. [c.120] Вернуться к основной статье