ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Другие циклодимеризующиеся полимерные системы из "Светочувствительные полимерные материалы " Это сделало легкодоступной большую серию полимеров. [c.172] Составы поливинилциннамалиденацетатных фоторезистов рекомендованы для производства печатных плат на различных подложках. Образование рельефа возможно при варьировании толщины слоев от 0,2 до 8 мкм, что является технологическим достоинством этого типа фоторезистов. Проявителем может служить ДМФА. В композиции этих фоторезистов включают антиоксиданты (полиалкилфенолы, нафтолы, эфиры гидрохинона), пластификаторы и инертные несветочувствительные полимеры (феноло-формальдегидные смолы, целлюлозу, ПВП и т. д.) [пат. США 4065430]. Такие полимеры могут разносторонне влиять на эксплуатационные характеристики слоев ускорять проявление, повышать стойкость к действию травителей, механическую прочность слоев. [c.172] Недостатком циннамалиденацетатных фоторезистов является невозможность их длительного хранения в растворах и слоях происходят темповые реакции структурирования, сопровождающиеся образованием гелей. [c.173] Они образуют твердые пленки с хорошей адгезией к подложкам и растворимые в органических растворителях. [c.174] Для получения полимеров с несколькими диметилмалеинимид-ными группами был использован путь радикально-инициированной полимеризации диметилмалеинимидметакрилата. Удается подобрать условия полимеризации таким образом [35], что 100 %-ная Конверсия мономера достигается без образования сшитого полимера. [c.175] С увеличением ММ полимера светочувствительность слоев на его основе заметно возрастает, оптимальной считается ММ 150 000. [c.175] Вернуться к основной статье