ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Электронное излучение и электронная литография из "Светочувствительные полимерные материалы " С точки зрения литографии электронное излучение интересно главным образом тем, что его длина волны на несколько порядков меньше, чем УФ-излучения, поэтому с помощью пучка электронов можно в принципе сформировать изображение на несколько порядков меньшее, чем с помощью света. Электронным пучком легко управлять, его можно сфокусировать в пятно диаметром менее 10 нм. Такая фокусировка необходима для формирования топологического рисунка с субмикронными размерами элементов. [c.33] Источники электронов, используемые в ЭЛУ, такие же, как и в классическом электронном микроскопе. Эти источники в зависимости от способа эмиссии электронов делятся на 2 типа с непосредственно накаляемым катодом и с катодом с полевой эмиссией [45]. В первом случае эмиссия электронов осуществляется нагреванием выше критической температуры такого материала, как вольфрам, вольфрам с примесью тория, гексаборид лантана. [c.37] Растровая система с использованием непрерывно движущейся кремниевой подложки была впервые описана в 1971 г. [48]. Эта система известна как ВВЕЗ, она создана для проведения быстрого, практичного и экономичного экспонирования в производстве высокоточных масок и схем специального азначения. Движение подложки контролируется с точностью 0,125 мкм на площади 100 см . [c.39] При изучении взаимной зависимости характеристик электронного луча и свойств резиста оказалось, что воспроизводимость профиля зависит от ошибок положения луча, его расфокусировки, наклона луча, уровня шумов [52]. С целью увеличения производительности сканирующей ЭЛУ исследованы возможности многолучевого сканировани я в варианте с параллельной фокусировкой, но с индивидуальным бланкированием лучей [39], Некоторые практические аспекты электронной литографии отражены в [53]. [c.39] Вернуться к основной статье