ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Позитивные фоторезисты на основе нафтохинондиазидов из "Фотохимические процессы в слоях" Область спектрального поглощения нафтохинондиазидов 320— 460 нм отвечает максимальной УФ-эмиссии ртутных ламп среднего и высокого давления, что делает практический фотолиз особенно эффективным. Квантовый выход реакции, определенный по исчезновению хииондиазида, весьма высок и находится в пределах 0,5—1,0. Он зависит не только от природы самого нафтохинон-диазида и среды, в которой протекает фотолиз, но в значительной мере от природы и положения заместителей в полимерной составляющей. Так, например, скорость фотолиза последовательно увеличивается почти вдвое при переходе от незамещенных соединений к веществам, содержащим в полимерной компоненте хлор, бром, иод [1]. [c.103] В реакции конденсации с 1,2-нафтохйнондиазид-(2)5-сульфо-хлоридом использовали и дифенилолпропан. Эти композиции отличаются недостаточной гомогенностью пленок и, следовательно, малой стойкостью в агрессивных средах, что, судя по недавнему патенту, удалось устранить, заменив дифенилолпропан гидрокси-производными полиариленоксидов [40]. [c.103] Широкое техническое применение полимерных композиций на основе нафтохинондиазидов в значительной мере определяется их высокой адгезией практически ко всем используемым подложкам, а также очень высокой разрешающей способностью (до 1400 лин/мм), обусловленной, в отличие от других слоев, задубли-ваемых светом, малым и неизменным до и после фотолиза размером молекул резиста. [c.103] Недостаток этой группы позитивных фоторезистов — относительно низкая стойкость их в агрессивных средах (кислотах, щелочах), обусловленная наличием свободных оксигрупп и все-таки недостаточно высокой молекулярной массой полимерного слоя, подвергающегося травлению. [c.104] Вернуться к основной статье