ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Фоторезисты на основе поливинилциннаматов из "Фотохимические процессы в слоях" Наиболее широкое практическое значение приобрел поливиниловый спирт, ацилированный коричной кислотой, — поливинилцин-намат [25]. На его основе получена большая группа фоторезистов негативного типа. Фотохимическое превращение этих резистов заключается в образовании мостиковых циклобутановых колец за счет этиленовых групп, принадлежащих разным полимерным цепям. [c.99] Циклобутановый фотосинтез является общей реакцией этиленовых производных, он достаточно подробно изучался. Предполагалось, что фотоциклодимеризация может протекать как двухступенчатый процесс с последовательным образованием двух новых С—С связей. Однако недавно было показано, что процесс образования димера из циннамоильных производных протекает как одноступенчатый, его высокая эффективность объясняется протеканием реакции с сохранением орбитальной симметрии. [c.99] В настоящее время исследования в области поливинилцинна-матных фоторезистов направлены на поиски путей синтеза различных привитых полимеров на их основе, модифицирующих свойства композиций в целом. Однако до сих пор эти попытки не привели еще к композициям, имеющим существенное преимущество перед исходным материалом. [c.100] Вернуться к основной статье