ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Оценка светочувствительности копировальных слоев из "Фотохимические процессы в слоях" Количественная оценка чувствительности фоторезистов к экспонированию проводится по степени дифференциации его растворимости в проявителе. Быстрая полная растворимость в проявителе облученных или необлученных участков в зависимости от типа фоторезиста при сохранении фоторельефа необходимой высоты характеризует светочувствительность слоя 5 = 1/Я, при Я =/т [2], где Я — экспозиция I — световой поток т — время экспонирования. [c.94] Для определения светочувствительности слоев наиболее широко применяются денситометрические методы [3,4] либо методы, оценивающие фотосвойства по характеристической интегральной кривой. [c.94] Сенситометрическая кривая светочувствительного слоя отражает кинетику суммарного процесса образования фоторельефа 3 слое данного полимера, на которую влияют соотношение спектров эмиссии источника (как правило, полного спектра ртутной лампы среднего или высокого давления) и поглощения слоя интенсивность фотолитического процесса с участием хромофоров композиции скорость последующих темновых реакций и т. д. Например, начальный момент возникновения фоторельефа констатируется с помощью микроинтерферометра Линника МИИ-4 по появлению на подложке нерастворимой в проявляющем растворе пленки с минимальной толщиной 0,03 мкм. Этот момент определяет пороговую чувствительность композиции 5пор (рис. III. 1). Часто оценивается также светочувствительность при рабочей толщине слоя, обычно 0,5 мкм (So,s см2-Вт -с ). [c.96] Вернуться к основной статье