ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Вопросы и задачи из "Качественный анализ 1960" Осадки, выпадая из раствора, адсорбируют на своей поверхности и одноименные и различные посторонние ионы. Эта адсорбция достигает особенно больших размеров, если адсорбируют коллоидные частицы, которые обладают сильно развитой поверхностью. Аналитику приходится считаться с явлением адсорбции, особенно при открытии малых количеств ( следов ) каких-либо примесей. [c.211] При реакциях отделения эти небольшие количества примесей нередко целиком увлекаются в осадсж и не могут быть открыты в растворе. [c.211] Какие именно из посторонних нонов будут в каждом данном случае адсорбироваться осадком, в значительной степени зависит от условий осаждения. [c.211] Опыт показывает, что обычно в первую очередь адсорбируются ионы, входящие в состав данных коллоидных частиц, которые приобретают при этом электрический заряд соответствующего знака. Подобные электрически заряженные частицы, коагулируя, увлекают за собой в осадок посторонние противоположно заряженные ионы. Так, если осаждать гидроокись железа в аммиачной среде, то частицы Ре(ОН)д, адсорбируя ионы ОН , приобретают отрицательный заряд и пото.му при коагуляции увлекают в осадок различные 1сатионы, напри.мер Mg+ , Са+ +, и особенно сильно Со++. Мп++. N1++ и др., с чем необходимо считаться при анализе катионов П1 группы. [c.211] Наоборот, если гидроокись железа осаждают в слабокислой среде, то частицы Ре(ОН)д, вследствие адсорбции ионов Ре+++, заряжаются положительно. Вследствие этого осадок адсорбирует из раствора различные анионы (С1 , 807 и т. п.). Такое увлечение в осадок посторонних веществ, которые сами по себе в условиях опыта данным осадителем не осаждаются, называется со-осаждением. [c.211] Соосаждение может происходить не только вследствие адсорбции посторонних веществ на поверхности частиц осадка, но и в тех трещинах и микрокапиллярах, которыми пронизан всякий реальный кристалл (внутренняя адсорбция). Механизм внутренней адсорбции представить себе нетрудно соответствующие ионы, адсорбированные на поверхности растущих кристаллов осадка и не успевшие своевременно покинуть эту поверхность, оказываются отрезанными от раствора вследствие отложения новь Х слоев вещества. [c.211] Очень часто причиной соосаждения является выпадение в ос док так называемых смешанных крш таллов, т. е. таких кристаллов, которые образованы двумя или несколькими веществами, кристаллизующимися в одной и той же кристаллической форуме. [c.211] Вещества, способные к образованию смешанных кристаллов, называются изоморфными. Отсюда рассматриваемый тип соосаждения называется изоморфным соосаждением. в отличие от рассмотренного ранее адсорбционного соосаждения. [c.212] Наконец иногда причиной соосаждения может являться также н образование настоящих химических соединений между осадком и соосаждаемой примесью. Например, соосаждение ионов Zn +, вместе с марганцем при осаждении последнего в виде марганцоватистой кислоты НаМпОз является следствием образования труднорастворимой цинковой соли этой кислоты ZnMnOj и т. д. Однако подобный тип соосаждения встречается сравнительно редко. Чаще всего приходится иметь дело с адсорбционным или с изоморфным соосаждением. [c.212] В первом случае адсорбированные ионы находятся в динамическом равновесии с соответствующими ионами в растворе ( адсорбционное равновесие ). При промывании осадка это равновесие все время нарушается и адсорбированные ионы постепенно переходят с поверхности осадка в раствор. Значит, адсорбированные на поверхности примеси можно удалить из осадка промыванием. Наоборот, окклюдированные примеси удалить промыванием нельзя. Переведение их вновь в раствор достигается только растворением всего осадка. [c.212] Если при реакциях отделения какие-либо ионы сильно соосаж-даются, целесообразно, по возможности, открывать их дробными реакциями до отделения. Можно иногда значительно уменьшить соосаждение, заменяя одни ионы другими. Так, если приходится вести осаждение ионов Ва++ ионами S07 в присутствии ионоз Fe++ +, весьма сильно соосаждаемых вместе с BaS04, лучше предварительно восстановить их в ионы Fe++. которые соосаж-даются гораздо слабее. [c.212] Кроме соосаждения, аналитику приходится иметь дело также с явлением последующего осаждения. Оно заключается в посте-пеннном выделении той или иной примеси из раствора в осадок при стоянии. Например, при отделении катионов IV группы от катионов III группы действием сероводорода в кислой среде первоначально получается осадок, не содержащий сульфида цинка. Если, однако, отделение осадка от раствора проводить спустя некоторое время после осаждения, то осадок оказывается загрязненным ZnS из-за происходящего при стоянии последующего осаждения его из раствора. [c.213] Причиной последующего осаждения сульфида цинка является адсорбция частицами сульфидов катионов IV группы ионов S— из раствора, в результате чего концентрация их на поверхности частиц осадка оказывается большей, чем в растворе. Поэтому и осаждение сульфида цинка на поверхности других сульфидов происходит легче, чем в их отсутствие. [c.213] Мы видели, что соосаждение и последующее осаждение являются серьезными помехами при многих аналитических разделениях ионов. Однако соосаждение может играть также и положительную роль. Благодаря ему некоторые ионы, находящиеся в растворе в виде следов, могут быть сконцентрированы, чем нередко пользуются при анализе. [c.213] например, если раствор содержит следы ионов Си++, то они не будут осаждаться при действии HjS. Но если к раствору прибавить немного соли двухвалентной ртути, то образующийся при действии сероводорода осадок HgS увлечет с собой и ионы Си+ +. При прокаливании полученного осадка HgS+ uS ртуть будет удалена (в результате разложения образующейся HgO на Hg и Оз, которые улетучиваются), а uS превратится в СиО. После растворения окиси меди в нескольких каплях НС1 получают раствор, в котором легко открыть ион Си++. [c.213] Описанная выше операция носит название осаждения с коллектором. Роль коллектора (носителя) в данном примере играет HgS, на котором концентрируется открываемый ион Си++, что дает возможность открывать весьма малые количества его. Осаждение с коллектором широко используется и в качественном и в количественном анализе прн определении следов различных примесей, имеющем чрезвычайно большое значение для ряда отраслей промышленности и науки. В настоящее время применяют довольно много различных коллекторов, например двуокись марганца, каломель (Hg y и некоторые другие соли, серу и т. д. [c.213] Ответ Осадок выпадает. [c.214] Ответ а) 5,6-10 г-ион .г, б) 9,2- 10 i г-ион л, понижает в 600 ООО раз. [c.214] Вернуться к основной статье