ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Позитивные фоторезисты из "Светочувствительные полимерные материалы" Очевидно, под действием УФ-света, как и более энергетически емкого излучения, у ПММА и его простых аналогов идет деструкция основной цепи полимера до простых фрагментов, что и приводит к растворимым низкомолекулярным веществам [7, 8]. [c.178] При экспонировании сильно сужается ММР ПММА для одного из изученных образцов Мш и до облучения составляли 6,85-10 и 3,41-10 , после облучения, достаточного для проявления слоя резиста, 1,6-10 и 0,914-10 соответственно [9]. [c.178] Несмотря на широкое применение, ПММА обладает недостаточной светочувствительностью (0,6—0,9 Дж/см ), низкой адгезией к подложке, малой стойкостью к термическим деформациям, низкой стабильностью при плазменном травлении подложек. Поэтому предлагается сенсибилизировать ПММА [9]. Оказалось, что содержащие грег-бутильные группы бензол, бензойная кислота, фенол, гидрохинон при содержании до 10% (масс.) 4-кратно повыщают относительную светочувствительность ПММА. При этом удается достичь разрешения до 0,5 мкм при толщине слоя 0,5 мкм. Одновременно повышается стойкость слоя и к травлению плазмой Ср4—Ог, по-видимому, вследствие сохранения сенсибилизатора в проявленном слое. [c.178] Сополимер метилметакрилата и инденона (до 18%) за счет групп кетона имеет несколько полос поглощения в области от 204 до 292 нм с коэффициентом экстинкции от 40000 до 1350. Фотораспад полимерной цепи этого высокомолекулярного соединения I (Ма, 10 ), начинающийся по схеме Норриш-1, из-за напряжений в цикле протекает легче, чем близкого по строению нециклического соединения И. [c.181] Полиметилвинилкетон расщепляется коротковолновым УФ-светом по схеме Норриш-П. Среди известных сополимеров метилви-нилкетона с алкенами у сополимеров с метилметакрилатом (70 %) и стиролом (50%) скорость фотораспада наибольшая (светочувствительность 0,24 Дж/см и 0,005—0,013 Дж/см соответственно) последний сополимер дает субмикронное разрешение [16]. [c.182] Сополимеры замшенных в ядре фенилизопропенилкетонов и метилметакрилата с Mw = 3-10 пригодны как резисты для УФ-све-та в области от 250 до 350 нм. Они отличаются во много раз более высокой светочувствительностью, чем ПММА и полиметилизопропенилкетон. Их фотораспад, вероятно, протекает по схеме Норриш-1. [c.182] Сополимеры замещенных в ароматическом ядре стиролов и SO2 имеют полосы в спектре при 200—300 нм. Они светочувствительны за счет поглощения энергии ароматическими ядрами. При замене бензольных колец полициклами светочувствительность по-ливиниларенсульфонов повышается [18]. [c.183] К сожалению, кислота Мельдрума и ее производные с алкильными и арильными заместителями, а также димерные продукты очень легко возгоняются из готового микронного слоя резиста, что исключает возможность термообработки слоя, а это важно для создания адгезионнопрочных слоев НС [22]. [c.184] После фотолиза кислоты Мельдрума в слое не удалось обнаружить продукта гидратации кетена — 4-карбоновой кислоты соответствующего 1,3-диоксолона, хотя растворимость НС в экспонированных местах возросла. Очевидно, в соответствии с предположением Дилла и сотрудников [23], повышение растворимости НС является результатом не гидрофилизации слоя за счет карбоксильной функции, а элиминирования гидрофобного ингибитора растворения — хинондиазида. [c.184] Вернуться к основной статье