ПОИСК Статьи Рисунки Таблицы Фотохимическая деструкция из "Физико-химия полиарилатов" Сплошная линия — экспериментальная кривая, пунктирная — расчетная кривая. [c.172] Изучение фотохимической деструкции полиарилатов особенно важно для выявления возможности использования их в качестве покрытий. Наиболее интересны в этом отношении полиарилаты на основе фенолфталеина, так как они прекрасно растворяются во многих доступных органических растворителях и обладают способностью образовывать пленки из растворов. Световое старение этих полиарилатов изучалось при воздействии УФ-излучения, так как полиэфиры поглощают свет с длинами волн не более 390 ммк. [c.172] Превращения, происходящие в полиарилатах под действием УФ-излучения, сходны по характеру с процессами, протекающими в условиях термической деструкции при малых степенях превращения (при низких температурах). [c.172] В процессе фотохимической деструкции полиарилатов на основе фенолфталеина конкурируют в основном два процесса разрыв главной цепи по сложноэфирным связям и раскрытие лактонного цикла, т. е. наблюдается полная аналогия с термическим распадом. Количественная оценка числа разрывов сложноэфирных связей в главной цепи и в лактонном цикле показывает, что фотохимическая деструкция полиарилатов Ф-1 и Ф-2 замедляется с увеличением продолжительности облучения . Это явление объясняется самостабилизацией пленок полиарилатов в результате образования при облучении соединений хиноидного типа, которые являются стабилизаторами деструкции, протекающей по радикальному механизму. [c.173] Вернуться к основной статье